Oberflächenvorbereitungstools und Nassbänke: Volumen zählt.
Das Spektrum der KINETICS Systeme reicht vom Batch-Eintauchen über Sprüh- oder Einzelwafer-Anwendungen bis hin zu Nassbänken. Alle können von der manuellen bis zur vollständigen Multitasking-Automatisierung konfiguriert werden.
Die Nassbänke von KINETICS sind auf Wiederholbarkeit und Volumen ausgelegt, mit Schwerpunkt auf Prozessen mit zwei oder mehr Verarbeitungstanks. Unsere Nassprozessstationen nach den aktuellen SEMI-Standards sind in vollautomatischen, halbautomatischen und manuellen Konfigurationen erhältlich.
- FEOL, BEOL oder Advanced-Packaging-Module
- Reinigen, Resist Strips, Ätzen, Entwickeln, Abheben des Metalls, Rückgewinnen und Trocknen von IPA
- Verwendbar für Säure-, Basen- und Lösungsmittelanwendungen
- Einzel- oder Mehrkassettenbadgrößen
- Siliziumwafer von 100 mm bis 450 mm, III-V-Materialien, Fotomasken, Glas und große Verteiler
- Kundenspezifische Substrate