MEGA® Slurry Metrology: Volle Prozesskontrolle.

 

In der Halbleiterindustrie ist die chemische Messtechnik von entscheidender Bedeutung für die Entwicklung und Aufrechterhaltung konsistenter Rezepturen für erfolgreiche Fertigungsprozesse.

 

So werden beispielsweise bei chemisch-mechanischen Planarisierungsprozessen (CMP) Schlämme unterschiedlicher Konsistenz und Partikelgröße verwendet. Chemische Messsysteme werden als Teil der CMP-Schritte in den Prozessablauf integriert, um eine Inline-Überwachung zu ermöglichen, die die korrekte Konzentration der Zusammensetzung einer Aufschlämmung aufrechterhält.

 

Die Produktfamilie der chemischen Inline-Messtechnik von KINETICS wurde entwickelt, um CMP-Prozesse auf unterschiedliche Weise zu unterstützen, von der Überwachung und Auffüllung von Mischungskomponenten über die Analyse der Partikelgröße und -verteilung bis hin zur Konzentrationsmessung in Echtzeit. Gemeinsam sorgen diese Produkte dafür, dass die Integrität der chemischen Formulierungen während des gesamten CMP-Prozesses erhalten bleibt.

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