设施配套设备

Kinetics还设计和制造了各种各样的特种产品和设施配套设备,以满足半导体行业的独特需求。

石英罐

我们的MEGATHERM™系列耐高温石英槽主要用于抗蚀剂剥离、晶片清洗和氮化硅蚀刻。

循环槽

Kinetics标准包装瓶清洗站用于清洁和容纳多达8个容量为一加仑的包装瓶。

包装瓶清洗站

Kinetics标准包装瓶清洗站用于清洁和容纳多达8个容量为一加仑的包装瓶。

深潜泵

Kinetics深潜泵的循环、滤过蚀刻模块均符合半导体业的严格要求。

温控式循环装置

WHRV™和WHO™专用于过滤蚀刻模块和其他型号化学品罐的温度控制。

快排快冲槽

Microkleen™快排快冲槽装备由可调节的顶部喷淋轨、底部外侧填充轨以及确保其在几秒内完成卸料的大敞口卸料门。

泵站

Kinetics的Chemblast™系列泵站适用于未安装AWN或工艺工具远离AWN的情况。

干燥器柜

湿敏设备需要进行环境保护时,Kinetics干燥器架和存储柜系列必不可少。

手套式操作箱

手套式操作箱及其他密封室可跟根据其应用和价格进行定制设计。

石英清洗系统

Kinetics提供特殊的石英管清洁系统,可彻底清洗扩散管等石英器皿的内部和外部管表面。

瓶装品用推车

Kinetics的瓶装品用推车可方便和安全地运输瓶装化学品。

工作台

Kinetics还提供价格优惠的定制钢结构工作台。