表面预处理工具和湿台

高起点

Kinetics的产品线范围广泛,包括批量浸洗、喷淋、单晶圆式应用设备,以及湿台。所有此类设备均有手动和多任务全自动化型号可选。

Kinetics的创新组件和系统信守平衡原则。处理效率建立在质量保证的前提上,以确保大批量生产有助于实现整体绩效。同样,还采用了手动湿式设备系统来保证自动化设备的可选性。

Kinetics系统的易集成性(集成到整个生产流程中),抵消了它的成本。而维护需要的减少,使客户无需过于在意此类产品的购买价格,事实已经证明此类产品很适合实验室和大规模制造环境。

此外,Kinetics可通过定制提供个体化的湿台系统,而且组件或子系统交货迅速,无需额外的投入。

Kinetics公司的传统表面预处理工具和湿台经过时间考验、全球范围内有点均衡,在均能获得您想要的处理结果。批量浸洗、喷淋、单晶圆式应用领域的产品越来越丰富,从普通型号到特殊型号应有尽有;在此类产品中,有些需要专业的材料处理,有些可用于各种条件下,不会对效能产生影响。

  • 前段制程、后段制程或先进封装模块
  • 清洗、去除光刻胶、蚀刻、显影、金属剥离、回收和异丙醇干燥
  • 支持酸、碱和溶剂应用
  • 单或多晶圆框架盒清洗槽尺寸
  • 100毫米到450毫米硅片、III-V材料、光掩模、玻璃与大型板材
  • 定制基板

Aeris

产量是前提

当产量目标是关键时,大批量生产不可避免,而这正是Aeris的擅长之处。它的关键部件均可定制,是湿台处理站的全面补充设备,符合最新的SEMI(半导体设备材料产业协会)标准,代表着最先进的技术。Aeris湿台工作站可手动、半自动和全自动运行,通风橱可使用各种高规格材料制作,包括FM认证的PVC-C(氯化聚氯乙烯)和不锈钢。

Celera

手工协助

需要手动工具时,可考虑Celera湿台和通风橱。产品线彰显了出Kinetics对半导体生产每个阶段和步骤的理解。费用和生产经验证明,Celera清洗槽、快排快冲槽、清洗机和其它模块适合高要求的环境,它们的各种通风橱可适合具体的应用需要和预算限制。


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快速做到最好:关键工艺问题

Kinetics公司的产品已踏入了世界上许多半导体公司的实验室、清洗室和车间。作为一个可向研发和制造团队提供支持的知名系统供应商,Kinetics的专家每年现场圆满答复数以千计的问题——包括有些重要问题的解决方案。以下是五个问题需要特别留意。

  1. 你的任务是什么?虽然这个问题像是个纯粹的度量问题,但实际上它的内涵比表面上大得多。无论是回答单一作业线、子系统、全系统还是整个工厂方面的问题,Kinetics都能快速找出根源。中心问题是,企业打算实现什么样的目标?
  2. 你希望得到什么研究或生产优势?有时,答案主要集中在化学工艺。而有时,则集中在材料处理上。也许运营或劳工成本是个竞争要素。任务问题涉及最终结果,而优势问题则牵涉到迈向成功所需要考虑或实施的具体战略。
  3. 什么是够用就好?每一阶段和每一步骤做到“第一”,可以为员工带来自豪感,同样也是来自领导层的压力。其实有时“不错”就已经足够,争当第一付出的代价超过收益并不是可取的事。
  4. 必须预测到哪些影响绩效的问题?市场需求是否不稳定,或者可以预测?材料或组件是否在工艺方式、处理或应用方面出现重大变化?每个处理过程中必须消除、控制或估计到哪些局部不稳定因素?
  5. 是否有明智的迂回路径来实现更佳的结果?只要肯尝试,总会有收获。大多数新功能都是大胆的举动(包括投入)渐次平衡的结果,而非按照逻辑一步步的进展。

即使是价格不高的产品,Kinetics仍会尽力尝试做到最好,这也是Kinetics文化的组成部分。对于技术人员、工程师、制程经理来说,每天询问自己这五个问题有助于提高效率。点击此处,了解更多相关信息。